• 2Dレーザ加工機 TruLaserシリーズ 製品画像

    2Dレーザ加工機 TruLaserシリーズ

    PR3kW-24kWまで幅広いラインアップをそろえた2Dレーザ加工機

    4kWまではTruFiber、8kW以上はTruDiskを搭載。 どのレーザ加工機が適切であるかは、どのような材料、板厚を加工するのか、 お客様の求める品質レベルは何かなど、要求により異なります。 トルンプでは幅広いラインアップと取りそろえているため、 お客様の希望に沿ったレーザ加工機をお選びいただけます。 特許技術 ハイスピードエコ  窒素切断において従来の1/3の消費量で加工可能 特許技術...

    メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社

  • 断熱・保温効果で燃料費の削減に貢献! 断熱シートフェルトタイプ 製品画像

    断熱・保温効果で燃料費の削減に貢献! 断熱シートフェルトタイプ

    PR使用実績多数!機械や装置からの放熱を抑え、作業環境の改善とエネルギー費…

    当社の『断熱シート フェルトタイプ』は、 接触面に低熱伝導率のフェルトを使用し 表面に低放射性のアルミ箔を貼ることで、内部からの熱の放出を防ぎ優れた断熱性を実現。 【断熱シートを導入するメリット】 ■外部への熱放射を防ぎ、作業環境の改善貢献 ■設備の保温性を高め、省エネ効果を実現 【特長】 ■耐熱性150℃ ■1枚から対応可能(250mm×250mm) ■厚さは2mm・4mmより選択可能 ...

    • 20221028 ガンマーケミカル株式会社 掲載用写真.png
    • 1.png
    • 2.png

    メーカー・取り扱い企業: ガンマーケミカル株式会社

  • 精密部品洗浄装置(脱脂) 製品画像

    精密部品洗浄装置(脱脂)

    HDD用モーター部品(HUB・ケース等)の脱脂洗浄装置 構成例:洗剤+…

    <主な仕様> 1.被洗浄物  : HDD用モーター部品(HUB・ケース等) 2.処理方法  : 専用バスケットによるDip処理 3.処理速度  : 2.5min(2kg×4バスケット) 4.パスライン : FL+750±10mm 5.搬送方式  : タクト送り...

    • precision_cleaner_1.png
    • precision_cleaner_2.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」 製品画像

    シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

    1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置!洗浄方法の…

    ットシャワー  ・ スピン乾燥 < 洗浄対象物 >  各種ウェハ  ・ Si(シリコン)  ・ 石英  ・ 酸化物  ・ 化合物等 < 対応ウエハ口径 >  ・ φ2”~φ4”  ・ φ6”~φ8”  < その他 >        単機能のスクラブ洗浄装置、薬液の使用、  ドライ・ウェットのローダー・アンローダー付タイプ、  複数チャンバー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」 製品画像

    省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」

    1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

    。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ4” φ6”~φ8” ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • Siナゲット洗浄装置 製品画像

    Siナゲット洗浄装置

    Siナゲット洗浄装置 専用バスケットで自動搬送 化学研磨・酸切・高品位…

    <主な仕様> 1.被洗浄物: Siナゲット 2.処理方法: 水洗⇒薬液洗浄⇒リンス⇒予備乾燥 3.搬送方法: 搬送ロボットによる自動搬送 4.使用薬液: フッ酸、硝酸...

    • Siナゲット洗浄装置_1.png
    • precision_cleaner_2.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 300mmカセットレス洗浄装置 製品画像

    300mmカセットレス洗浄装置

    ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用 / 50枚を一括処理 / …

    <装置概要> 本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm/5個の高清浄度を達成しています。...

    • 300mm_cassetteless_1.png
    • 300mm_cassetteless_2.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

1〜5 件 / 全 5 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • ipros_bana_提出.jpg
  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg

PR