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    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • 独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置 製品画像

    独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

    PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

    『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

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    メーカー・取り扱い企業: LPKF Laser&Electronics株式会社

  • 抵抗式ポジションセンサ RD6R1A0008 製品画像

    抵抗式ポジションセンサ RD6R1A0008

    抵抗式ポジションセンサ ロータリタイプ

    気的有効可変角度     :320° リニアリティ保証範囲    :310° リニアリティ        :±2% 貫通穴形状         :φ3.53 動作寿命          :500,000 cycles 定格電圧          :5V DC 外形サイズ         :20.6×32.5×3.6mm 使用温度範囲        :-40℃ ~ +85℃ 機械的...

    メーカー・取り扱い企業: アルプスアルパイン株式会社

  • MEMS気圧センサ HSPPAR003D 製品画像

    MEMS気圧センサ HSPPAR003D

    アプリケーションが拡がる、小型気圧センサ

    出力      :44mV Full Scale 使用動作温度範囲:-20℃ ~ +85℃ 出力電圧/110kPa:79mV 出力電圧/101.3kPa:72.6mV 測定圧力範囲  :500 ~ 1100hPa フルスパン電圧 :44mV オフセット温特 :-4 ~ +6%FS 感度温特    :-4 ~ +4%FS ブリッジ抵抗  :5 ~ 7kΩ 出力タイプ   :差動...

    メーカー・取り扱い企業: アルプスアルパイン株式会社

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