イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

PRR＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。 また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチング プロセスや、デュアルイ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』

触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向け！統合されたガス分配システ…

当社では、触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向けにホットワイヤーソースを 提供しています。 インラインおよびダイナミック製膜プロセスには特殊な直線形エネルギー源が 利用可能。 特殊設計のソースフランジ、すばやく取り付けができるワイヤーコンポーネント によって構成されており、必要に応じて、単にユニット毎に交換することで、 このワイヤーコンポーネントダウンタイムを短縮できます...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

リニアPECVDプラズマ源

物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…

『リニアPECVDプラズマ源』は、標準的な静電容量結合プラズマ電極に類似した 製品です。 インラインダイナミックモードで動作しており、基板、キャリア、または ウェブは絶えず電極を通過し、連続的に製膜されています。 CCP CVDを用いる静止モードで大型の基板を均一に製膜するという機械的、 電気的な大規模作業が求められる場合であっても、リニアPECVDは 空間パラメーターを一次元...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社