• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • 簡単大気圧でSiO2コーティング!プラズマコートUL-Colat 製品画像

    簡単大気圧でSiO2コーティング!プラズマコートUL-Colat

    弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 …

    今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 厚みは処理条件によりコントロール可能。(速度、液量、距離など) 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。 操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

  • DLCコーティング装置 製品画像

    DLCコーティング装置

    広範な膜特性の制御可能!基板加熱源は水冷型と加熱型から選択いただけます

    『DLCコーティング装置』は、豊富な蓄積データを有し、優れた膜厚分布 および再現性を実現します。 成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能。 半導体をはじめ、電子部品や光学部品、車載部品などにご利用いただけます。 また、マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作できます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■成膜源はRFプラズマCVD...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 成膜受託サービス 製品画像

    成膜受託サービス

    液相・気相コーティングに関わらず多様な工法でお客様のニーズを全方位でカ…

    『連続プロセス』で工法の違うプロセスもワンストップで対応可能。 生産工程を飛躍的に向上させます! 多様なプロセス・膜種・膜厚が可能 ■ドライ  ・スパッタ  ・蒸着  ・CVD  ・ALD  ・DLC ■ウェット  ・ディップ  ・スプレー  ・印刷、転写  ・ダイコーター  ・ディスペンサー 装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

  • 低温成膜で高硬度のDLC(TAC)膜を提供 製品画像

    低温成膜で高硬度のDLC(TAC)膜を提供

    部品の傷付き、摩耗にお困りの方必見。水素フリーDLC(ta-C)膜は高…

    フィルタードアーク方式(FCVA)による水素フリーのDLC膜(ta-C)は、 既存のPVD方式やCVD方式と異なり、電磁フィルターにより不純物を除くため、 パーティクルが少なく、優れた密着性と高い耐摩耗性を実現します。 また室温成膜であるためプラスチックやゴム等の低融点材料への成膜や、 セラミックス等の様々な材料への成膜も可能です。 更に10um以上の厚膜も作成可能となり、自動車部品...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン

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