独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

EMI（エミッション）トータル試験システム　MR2300

PR手近なところでノイズ対策！EMIは事前試験で効率アップ。

MR2300は当社のスペクトラムアナライザ技術、電波暗箱技術およびアンテナ技術を結集した統合システムです。 EMIトータル試験システム ＭR2300の特長 ■追加設備のいらないEMIトータル試験システム アンテナ、EMI用スペクトラムアナライザ、LISN、EMI用PCソフトウェアのみならず、電波暗箱まで全てが揃ったトータル試験システム ■自社開発の小型・広帯域アンテナ 30M...

メーカー・取り扱い企業： マイクロニクス株式会社

EN60065/EN60950-1規格失効日のお知らせ

EN60065/EN60950-1規格失効日のお知らせ

下記規格について規格の失効日が近づいてきております。 ●EN60065:2002/A1:2006 　⇒　2010年7月1日以降　EN60065:2002/A11:2008 ●EN60950-1:2001, EN60950-1:2001/A11:2004,...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモス・コーポレイション

IEC60601-1第3版、JIST0601-1:2012評価

IEC60601-1　第3版、JIST0601-1:2012（IEC6…

EN60601-1　第3版は2012年6月1日より強制となります。 JIST0601-1　第3版は2012年6月１日に発行されました！ IEC60601-1:2005 第3版、JIST0601-1:2012（IEC60601-1 第3版ベース）における安全評価・試験実施が可能です。 IECEE-CB制度（国際的な試験結果相互活用スキーム）NCBであるNEMKO社の CB試験所(CBTL)とし...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモス・コーポレイション