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弊社では化合物半導体結晶の研磨加工が可能です。定形品に限らず、少量から…
HEMT)などに用いられているGaN単結晶の超平滑研磨加工及び、 パターン形成済みの裏面側を加工し薄くする事も行っています。 【加工詳細】 ■加工素材 ・SiC ・GaN ・GaP ・GaAs ・GaSb ・ZnS ・ZnSe ・ZnTe ・パターン付きウェーハの裏面加工など ■仕上がり厚み:20μm~ ■表面粗さの実力値:GaP表面粗さ:0.1nm ※詳しくは資料をダウン...
メーカー・取り扱い企業: 日本エクシード株式会社
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SiC・GaN・GaPなど!さまざまな化合物半導体結晶の研磨加工が可能
【化合物半導体ウェーハ(抜粋)】 ■SiC ■GaN ■GaP ■GaAs ■パターン付きウェーハの裏面加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 日本エクシード株式会社
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【技術資料進呈中!】ウェーハ研磨加工プロセスと加工素材&技術紹介
数百種類以上の半導体素材の研磨を扱っている技術を紹介!各種ウェーハの研…
応えいたします。 【加工素材一覧】 ■酸化物材料:LiTaO3(LT)、LiNbO3(LN)、ZnO、 水晶、サファイア、サファイア再生、etc ■化合物材料:GaN、 SiC、GaP、GaAs、GaSb、ZnS、ZnTe、etc ■金属素材:SUS、Au、Ag、Cu、W、Ti、Al、etc ■その他:Ge、C、MnZnフェライト、TeO2、樹脂材料、etc 【掲載内容(抜粋)...
メーカー・取り扱い企業: 日本エクシード株式会社
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