OLED | イプロスものづくり

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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃

PR有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用高温加熱セルとし…

OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用高温蒸着ソースです。固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着（～ 800℃）用セルと高温加熱（～ 1500℃）セルを交換することができます。真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
FPD・半導体用ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能

PRG１～G６ｈの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケースの製…

当社の『ケース事業』では、お客様のニーズに合わせて、ケースの製作・修理・洗浄・保管から輸送までトータルシステムをご提案します。精密・高品質なガラス搬送ケースの製造・クリーンルーム洗浄から物流支援まで幅広く手掛けています。また、長年培ってきたガラス精密加工技術をベースに、フラットパネルディスプレイ用（LCD・OLED）フォトマスク用・メタルマスクのケースなどの先端分野で求められる超精...
メーカー・取り扱い企業：株式会社ディー・アール・エス（DRS)
3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社
【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

真空排気シミュレーションなど低圧条件のガス流れの解析ができる希…

結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社
真空排気シミュレーションソフト『DSMC-Neutrals』

真空排気シミュレーションなど低圧条件のガス流れの解析ができる希…

結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社
粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社
真空装置向け希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算・アレニウス形式の反応データから化学反応を計...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社