• イメージセンサ 製品画像

    イメージセンサ

    レンズから入射した光を電気信号に変換!CCD、CMOSが主な方式

    「イメージセンサ」は、デジタルカメラやスマートフォンの カメラ機能で使われる半導体センサです。 レンズから入射した光を電気信号に変換。 主な方式にCCD(Charge Coupled Devices 電荷結合素子)、 CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor 相補型金属酸化物半導体)があります。 【主な方式】 ■CCD(Ch...

    メーカー・取り扱い企業: 夏目光学株式会社

  • Film Deposition&Heat Treatment 製品画像

    Film Deposition&Heat Treatment

    Equipped with various film depositi…

    PBII is suitable for carbon film for pre-annealing of SiC, RTA is for annealing....Film formation ・ PBII (Plasma Based Ion Implantation) Carbon deposition ・ Sputter Possible to form elect...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 【テストウェハ】ブランケットウェハ (200mmウェハ) 製品画像

    【テストウェハ】ブランケットウェハ (200mmウェハ)

    成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…

    アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】  Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、  PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【テストウェハ】ブランケットウェハ(300mmウェハ) 製品画像

    【テストウェハ】ブランケットウェハ(300mmウェハ)

    成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…

    アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】  Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、  PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

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