実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

膜厚調整トリミング装置

独自に開発したイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。

原理：DCベースイオンミリング 特徴： シンプルで頑丈な構造 素早い反応時間（切削量に応じて） ０エッチング可能 DCベースソース（グリッドレス、フィラメントレス）でシンプルなメンテナンス 適用例: SAWフィルターの温度補償層（SiO2）の膜厚調整、LTO,AlN膜等の膜厚調整 AlN, LTO等圧電膜の膜厚、周波数調整 その他導電体、非導電体膜の膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー