ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。
Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。
成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。
ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い
によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータによる評価等、様々なニーズにお応え致します。
★サービスの詳細を知りたい方、ご依頼を検討されている方は
お気軽に下記「お問い合わせ」ボタンより、ご連絡ください。
【特長】
■各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能
（Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN 等）
■小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能
■当社の技術者がレシピ製作やパラメータ設定のサポート
■プリカーサのお持込みも対応可能
■定期的な小ロット生産可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』
【ALD装置の特長】
■プリカーサの熱分解リスクの低減
■バブリングを用いないパーティクルレス化
■供給・排気ラインの適した温度管理
■Hi-Watty（AlNヒータ）を採用したヒートステージ
■多様なカスタマイズと安全構造
■成膜種例（Al2O3、TiO2、HfO2、ZrO2、TiN、AlN 等）
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
▼お問い合わせ先
TEL：相模原事業所 042-704-5352
MAIL：info@watty.co.jp
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』
取扱企業実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』
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センサー事業部ではフロートスイッチ、レベルスイッチ、レベルセンサなど 呼び方は様々ですが、液体の水位制御に最適な磁気式、光学式、電極式、 超音波式を応用した液面センサをご提案します。 熱システム事業部では主に半導体製造装置や医療器具向けの 高精度なヒータの設計・製作、ALD成膜装置の製造販売・受託作業等を行っております。 お客さまの希望に合わせた設計から生産までワッティーにお任せください。 【取扱製品】 ・窒化アルミ（セラミック）ヒータ ・シリコンラバーヒータ ・ポリイミドヒータ ・マイカヒータ ・カートリッジヒータ ・ヒートエクスチェンジャー（ガス加熱器） ・マントルヒータ（ジャケットヒータ） ・イージートレースヒータ ・テープヒータ ・シリコンベルトヒータ ・ヒータASSY ・ユニットASSY ・ALD（原子層堆積）装置 ・ALD受託成膜サービス
実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』へのお問い合わせ
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