バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

【特殊仕様】 ■絶縁層用カソード(1個)と電極層用カソード(2個)の計3元スパッタも仕様変更可能 (二酸化ケイ素SiO2や窒化ケイ素Si3N4,型式:SPR-015-B) ■排気系をクライオポンプに仕様変更可能 ■膜厚計で制御して積層する仕様変更可能(型式:SPR-015-B) ※詳しくはPDFをダウンロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所