• セラミック系重防食ライニング『Si-8000』 製品画像

    セラミック系重防食ライニング『Si-8000』

    PR塩酸、硫酸、硝酸、腐食性薬品に耐性があります!金属各種、プラスチックや…

    『Si-8000』は、耐熱複合材の宇宙技術開発から生まれた、画期的な 機能を有するセラミックコーティングです。 SiO2シリカガラスを厚膜化、ヒビや割れに強い、常温~250℃での 低温施工、幅広い基材形状に施工可能、GL機器の代替、補修も可能。 硬いけれども割れず、塩酸や硫酸なども問題なく使用可能な 耐薬品性といった特長が備わっております。 被膜には酸・アルカリ・溶剤等に対...

    メーカー・取り扱い企業: サーフ工業株式会社

  • 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    <主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像

    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。  ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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