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実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』
PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...
メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社
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独自に開発したイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。
素早い反応時間(切削量に応じて) 0エッチング可能 DCベースソース(グリッドレス、フィラメントレス)でシンプルなメンテナンス 適用例: SAWフィルターの温度補償層(SiO2)の膜厚調整、LTO,AlN膜等の膜厚調整 AlN, LTO等圧電膜の膜厚、周波数調整 その他導電体、非導電体膜の膜厚調整 納入実績: 日本:複数台 海外:多数台納入 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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