重量物位置決め微調整紙『すべるんペーパー』（片面タイプ）

PRバナナの皮のように滑る紙で『あと数センチの微調整』ができます。 【摩…

『すべるんペーパー』は、 大型機械などの重量物を設置する際に重ねて敷くことで、 前後左右自在に、スーっと滑らせることができ、 細かい位置調整を簡単に行うことができる重量物位置決め微調整紙です。 ◇３種類 コンパクトな巻きタイプ「SB-A30R」 幅広巻きタイプ「SB-A50R」 カット不要のシートタイプ「SB-A20」 一般的に"滑る＝危険"ですが、工夫すれば"滑る＝便利"...

メーカー・取り扱い企業： あすまる本舗株式会社

Moxa社製x86産業用コンピューター

PR産業用オートメーションの現場にフィット！x86産業用コンピューターBX…

Moxa社の新製品『BXP/DRP/RKSシリーズ』は、 ボックスタイプ、DINレールマウントタイプ、1Uラックマウントタイプの 3つのホームファクターがベースの全75モデルからなる 堅牢性と信頼性に優れたコンパクトサイズのx86産業用コンピューターです。 現在、ファクトリーオートメーション、リテールオートメーション、 輸送オートメーションでの活用例をご紹介したアプリケーションノート...

メーカー・取り扱い企業： アイ・ビー・エス・ジャパン株式会社

インクジェット塗布装置『IP2030L(A4サイズ)』

ウエハ、シート、ガラス、樹脂基板などに！機能性インクを塗布

『IP2030L(A4サイズ)』は、ウエハ、シート、ガラス、樹脂基板などへ 機能性インクを塗布する電子デバイス向けインクジェット塗布装置です。 実験や試作、生産までこれ1台で済み、高精細なパターン塗布が可能。 また、用途に合わせて2タイプのモデルより選択いただけます。 【特長】 ■実験、試作、生産までこれ1台 ■高精細なパターン塗布 ■パターニング・全面・部分塗りに対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

クリーンローラー『RYシリーズ』薄板対応タイプ

薄板対応の除塵装置。 駆動部にマグネットギアを採用！この一台で幅広い…

『薄板対応タイプクリーンローラー』をご紹介いたします。 「RY-1106シリーズ」は、細径の新型クリーンロールを使用 することで、薄板やフイルムの除塵が可能になりました。 また、装置駆動部分にマグネットギアを採用する事により、 ギア部分からの微少発塵を抑制。 この他にも「RFC-705A」、「RF-705A」をご用意しています。 【特長】 ■落ち込み防止 ■巻き込み...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージに...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

CFRTP製品向け超音波連続溶着装置『株式会社アドウェルズ製』

独自の超音波溶着技術によって、従来技術では困難だったCFRTPの連続的…

0LS 独自の技術によってCFRTP構造体の溶着を行います。 １、スポットではない連続的溶着が可能 ２、溶着方向に限定が無くワーク形状への高い対応力があります。 ３、A材にて引張強度50MPaの非常に高い接合強度を得た事例もあります。 ４、多軸ロボットに搭載し、大型ワークに対応することも可能 ■UDテープレイアップ装置 超音波によってUDテープを樹脂成型品や金属部品にレイアップしま...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージに...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージに...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社