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PR本物の電気ショックで、緊張感のある感電防止訓練を実現。VR・AR端末や…
アプリ連動感電デバイス「UNAGI」は、実際に電気ショックを与えられ、 リアリティに富んだ感電防止訓練を実現できる製品です。 製造・整備に携わる方々にとって必要な質の高い感電防止訓練を 低価格のデバイスで手軽に実施していただけます。 【特長】 ■88,000円(税抜)の低価格でご提供 ■感電のタイミングや電流の強さなどはアプリから制御可能 ■VR、AR、パソコン、スマホ、タブレットなど各種端末...
メーカー・取り扱い企業: シンフォニア株式会社
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PR要求の厳しい用途に対応する産業用グレードの性能
・最大10Wの高出力 ・超低強度ノイズ ・高いビームポインティング安定性 & 安定したビーム品質 ・ターンキー、メンテナンスフリーの信頼のあるシステム...半導体産業における高性能計測などの産業アプリケーションや量子コンピューティングのアプリケーションには、極めて安定した信頼性の高い高出力レーザー光源が必要です。 ALS-VISシリーズは革新的なファイバー技術をベースにしたレーザーとアンプで、特...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備,CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続,PC...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (P...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラ…
半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。 ...【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○使用可能流体はN2、O2、Ar(バルクガス)です。 ○推奨流量は500〜3,000L/min(60〜180m3/Hr)です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ
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【資料】アクア プラズマ~画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術~
Aqua Plasmaの効果として、ESCAによる表面の深さ分析結果な…
当資料では、アクア プラズマの画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術を ご紹介しています。 Aqua Plasmaの効果として、銅サンプル表面の酸化深さをESCAで Arビームエッチングを用いながら組成分析した結果などを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■はじめに ■Aqua Plasmaの効果 ■ESCAによる表面―深さ分析結果 ■フォトレジストの除去レー...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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