• ブルーレーザー搭載最新金属3Dプリンター、Meltio M600 製品画像

    ブルーレーザー搭載最新金属3Dプリンター、Meltio M600

    PR先行機種と比較し造形面積が約4倍になり、またブルーレーザーを用いること…

    Meltio M600は、先行機種のMeltio M450と比較し造形面積が約4倍になり、鍛造品相当の強度をもつ、より大きな金属部品を造形できます。またホットワイヤー対応に加え新たにブルーレーザーが搭載されたことで、使用できる材料が増えるだけでなく、造形速度がより速くなりました。 さらに、Meltio M600はMeltio M450と比較し造形開始に必要な準備時間が3分の1に短縮されています。...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社3D Printing Corporation

  • 3次元の形状をそのまま分類・検索、設計を大幅に効率化 製品画像

    3次元の形状をそのまま分類・検索、設計を大幅に効率化

    PR自動車、機械、電子機器などの3DCADエンジニアの方必見!3次元形状の…

    3次元形状のマッチング(特許第7190147号) Aries 3D-Matchingは、検索対象の形状・サイズに一致する部品を登録されたライブラリの中から検索し、一致度が高い順に出力します。 マッチング結果からPLMに登録された設計データへ簡単にアクセスできます。 そのため過去の設計資産の有効利用が促進され、作業効率が大幅にUPします。 弊社はこのAI技術の特許(特許第7190147号)を取...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アストライアーソフトウエア

  • 【技術記事】ヘッドアップディスプレイの作業で使用するツールの選択 製品画像

    【技術記事】ヘッドアップディスプレイの作業で使用するツールの選択

    ヘッドアップディスプレイの作業で使用するツールの選択

    あります。 このブログ記事では、ヘッドアップディスプレイ(HUD) の性能を設計・分析する際の OpticStudio ツールの使用方法を紹介します。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【資料】先端の光学エンジニアリングで深宇宙を観測 製品画像

    【資料】先端の光学エンジニアリングで深宇宙を観測

    深宇宙を詳細に観測!銀河がどのように形成れ、進化してきたかという疑問…

    知識を大幅に増やす 望遠鏡光学系の設計、製作、テストに取り組んでいます。 同大学の大規模な光学研究所とワイアント光科学大学の研究者は、 巨大マゼラン望遠鏡などの地上ベースのシステムと、提案れている OASIS宇宙観測所などの光学部品の開発の前線に立っています。 当資料では、先端の光学エンジニアリングで深宇宙を観測することについて 詳しく掲載。是非、ダウンロードしてご一読くだ...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】シミュレーションが複合現実(MR)の進化に与える影響 製品画像

    【技術記事】シミュレーションが複合現実(MR)の進化に与える影響

    ここ数年、堅牢でスケーラブルな複合現実(Mixed Reality -…

    MRの技術革新は、今日私たちが利用できる膨大な量のデータと、我々の生活、仕事、娯楽の環境をより充実せるためにそれらデータを活用したいという願望により促進れています。近年の技術進歩により、このようなシステムの使い勝手が向上し、その結果、防衛[1]、製造[2]、自動車[3]、ヘルスケア[4-5] ...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】ZOS-APIの構造の基本について理解する 製品画像

    【技術記事】ZOS-APIの構造の基本について理解する

    ZOS-API の基本的構造と ZOS-API に適用れるオブジェク…

    この記事では、オブジェクト指向プログラミングの重要な概念と、それらが ZOS-API でどのように使用れるかについて説明します。開発者でなくても ZOS-API を使用することは可能ですが、いくつかの基本事項を把握すれば、 ZOS-API を使用する作業がはるかに簡単になります。 ※記事の続き...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】高歩留まり最適化 製品画像

    【技術記事】高歩留まり最適化

    高歩留まり最適化はより製造しやすい設計を実現する画期的なテクノロジーで…

    用してきました。そうした従来の設計手法では、まず設計の公称性能を最大化したうえで、後続する別の工程において、公称パラメータに製造公差を加えます。これによって、製造後の光学系でも仕様どおりの性能が実現れます。しかし、この手法による設計は、製造誤差と位置合わせ誤差に対して極めて敏感である場合が多く、再現性よく光学製品を製造することは困難です。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【製品情報】Zemax 新リリース 22.1 のお知らせ 製品画像

    【製品情報】Zemax 新リリース 22.1 のお知らせ

    STAR モジュールの機能強化およびOpticStudioとOptic…

    icStudio 間のワークフローを簡易化・最適化する最新製品 OpticStudio STAR モジュールの最新リリースを発表しました。この最新バージョン 22.1 リリースは、2022 年に予定れているリリースの第一弾です。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】ノンシーケンシャル光学系を最適化する方法 製品画像

    【技術記事】ノンシーケンシャル光学系を最適化する方法

    ユーザはシステムパラメータ変数を設定しメリットファンクションエディタで…

    能性があるため、適切な変数と基準を選択することが重要です。使用可能な基準のタイプは、シーケンシャルモードとノンシーケンシャルモードで異なります。この記事では、ノンシーケンシャルシステムの最適化に推奨れるアプローチをご紹介します。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

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