• 断熱材では防ぎきれない「太陽からの輻射熱」を約97%カット 製品画像

    断熱材では防ぎきれない「太陽からの輻射熱」を約97%カット

    PR折板屋根の上から施工する特許工法【スカイ工法】とは

    断熱材では防ぎきれない「太陽からの輻射熱」を約97%カット。 『スカイ工法』は、折板屋根の上から遮熱シートを施工する特許工法です。 【スカイ工法の特長】 ■夏場の室内温度が約11℃低下(実験結果による最大温度差) ■冷房費の節約、在庫商品の劣化防止、作業環境の改善に貢献 ■作業者の技量や施工時の天候に左右されず、安定した遮熱効果を発揮 ■雨漏りにも有効です ■風速40mの強風でも遮熱シートが剥が...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ライフテック 工場・倉庫の暑さ対策には「サーモバリア」

  • リチウムイオンバッテリー用 手動積層装置(つづら折りタイプ) 製品画像

    リチウムイオンバッテリー用 手動積層装置(つづら折りタイプ)

    PR【新製品】正極・負極及びセパレータを交互に精度良く手動で積み重ねる、つ…

    本装置はリチウムイオン二次電池の積層工程において、正極・負極及び セパレータを交互に精度良く手動で積み重ねる装置です。積層の工程は、 ロール供給されるセパレータをつづら折りで繰り返し、折り曲げた間に 正極及び負極を交互に供給し積層を行います。 【特長】 ■つづら折りされたセパレーターの間に正極と負極を交互に重ねる受け台  があり、受け台高さが一定になるよう上下に動作します。 ■積...

    • つづら折りタイプ拡大写真.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンクメタル 東京営業所

  • 【技術記事】ヘッドアップディスプレイの作業で使用するツールの選択 製品画像

    【技術記事】ヘッドアップディスプレイの作業で使用するツールの選択

    ヘッドアップディスプレイの作業で使用するツールの選択

    あります。 このブログ記事では、ヘッドアップディスプレイ(HUD) の性能を設計・分析する際の OpticStudio ツールの使用方法を紹介します。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【資料】先端の光学エンジニアリングで深宇宙を観測 製品画像

    【資料】先端の光学エンジニアリングで深宇宙を観測

    深宇宙を詳細に観測!銀河がどのように形成れ、進化してきたかという疑問…

    知識を大幅に増やす 望遠鏡光学系の設計、製作、テストに取り組んでいます。 同大学の大規模な光学研究所とワイアント光科学大学の研究者は、 巨大マゼラン望遠鏡などの地上ベースのシステムと、提案れている OASIS宇宙観測所などの光学部品の開発の前線に立っています。 当資料では、先端の光学エンジニアリングで深宇宙を観測することについて 詳しく掲載。是非、ダウンロードしてご一読くだ...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】シミュレーションが複合現実(MR)の進化に与える影響 製品画像

    【技術記事】シミュレーションが複合現実(MR)の進化に与える影響

    ここ数年、堅牢でスケーラブルな複合現実(Mixed Reality -…

    MRの技術革新は、今日私たちが利用できる膨大な量のデータと、我々の生活、仕事、娯楽の環境をより充実せるためにそれらデータを活用したいという願望により促進れています。近年の技術進歩により、このようなシステムの使い勝手が向上し、その結果、防衛[1]、製造[2]、自動車[3]、ヘルスケア[4-5] ...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】ZOS-APIの構造の基本について理解する 製品画像

    【技術記事】ZOS-APIの構造の基本について理解する

    ZOS-API の基本的構造と ZOS-API に適用れるオブジェク…

    この記事では、オブジェクト指向プログラミングの重要な概念と、それらが ZOS-API でどのように使用れるかについて説明します。開発者でなくても ZOS-API を使用することは可能ですが、いくつかの基本事項を把握すれば、 ZOS-API を使用する作業がはるかに簡単になります。 ※記事の続き...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】高歩留まり最適化 製品画像

    【技術記事】高歩留まり最適化

    高歩留まり最適化はより製造しやすい設計を実現する画期的なテクノロジーで…

    用してきました。そうした従来の設計手法では、まず設計の公称性能を最大化したうえで、後続する別の工程において、公称パラメータに製造公差を加えます。これによって、製造後の光学系でも仕様どおりの性能が実現れます。しかし、この手法による設計は、製造誤差と位置合わせ誤差に対して極めて敏感である場合が多く、再現性よく光学製品を製造することは困難です。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【製品情報】Zemax 新リリース 22.1 のお知らせ 製品画像

    【製品情報】Zemax 新リリース 22.1 のお知らせ

    STAR モジュールの機能強化およびOpticStudioとOptic…

    icStudio 間のワークフローを簡易化・最適化する最新製品 OpticStudio STAR モジュールの最新リリースを発表しました。この最新バージョン 22.1 リリースは、2022 年に予定れているリリースの第一弾です。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

  • 【技術記事】ノンシーケンシャル光学系を最適化する方法 製品画像

    【技術記事】ノンシーケンシャル光学系を最適化する方法

    ユーザはシステムパラメータ変数を設定しメリットファンクションエディタで…

    能性があるため、適切な変数と基準を選択することが重要です。使用可能な基準のタイプは、シーケンシャルモードとノンシーケンシャルモードで異なります。この記事では、ノンシーケンシャルシステムの最適化に推奨れるアプローチをご紹介します。 ※記事の続きは関連リンクでご覧くだい。...

    メーカー・取り扱い企業: アンシス・ジャパン株式会社

1〜7 件 / 全 7 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2405_300x300m_azx_me_ja.jpg
  • 3校_0830_taiyo_300_300_260838.jpg

PR