•  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 水素ガスバーナー用途事例 ハンダ付け 製品画像

    水素ガスバーナー用途事例 ハンダ付け

    水素酸素バーナーなら、230℃の鉛フリーハンダも短時間でハンダ付け完了…

    昨今主流の鉛フリーハンダは高融点(230℃)ですが、酸素水素バーナーの直進性に富んだ高温炎ならごく短時間で高品位なハンダ付けが可能です。これは熱伝導に時間がかかるハンダごてにはないメリットです。 【特徴】 ○線材+端子のハンダ付け ○線材+コネクタのハンダ付け  →精密な酸素水素ガスの炎でピンポイント加熱するため、周辺に余分な熱を与えることなくハンダ付けを迅速に完了できます。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: サンウェル株式会社

  • ガス化分解装置『準流動層循環機能付アップ・ドラフト型ガス化装置』 製品画像

    ガス化分解装置『準流動層循環機能付アップ・ドラフト型ガス化装置』

    効率的なバイオマスガス発電システムの構築で売電ビジネスが可能!

    『準流動層循環機能付アップ・ドラフト型ガス化装置』は、別途推奨の ガスエンジン発電機と組合せることにより、効率的なバイオマスガス発電 システムが構築できるガス化分解装置です。 ガス化分解炉内では、各種バイオマス、炭化水素廃棄物等の原料を酸素の 供給を制限した状態、水蒸気を使い高温下、効率的な熱化学分解反応を 行い、高エネルギー粗製合成ガスを製造します。 また、後段の合成ガス精製...

    メーカー・取り扱い企業: 飯田ヂーゼル株式会社 環境事業部

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