• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • バッチ式真空半田付装置(フラックスレスリフロー 真空リフロー) 製品画像

    バッチ式真空半田付装置(フラックスレスリフロー 真空リフロー)

    パワーモジュールからウェハバンプまでフラックスレス・ボイドレスリフロー…

    高信頼性半田付を実現するバッチ式真空半田付装置 真空排気による低酸素雰囲気での高速・均一半田付。真空・常圧・各種雰囲気(還元・不活性)の組合せにより高いレベルのボイドレス半田付を実現。車載用高信頼性パワーモジュールの標準プロセスの基本型。 処理量&性能UPの新型登場。 新型機を工場に設置。装置見学およびサンプルテスト積極対応 前処理のプラズマクリーニングも含めボイドレス・フラックスレス半田...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 卓上型コンベア式リフロー炉(加熱炉)SVO-340C 製品画像

    卓上型コンベア式リフロー炉(加熱炉)SVO-340C

    400℃までの加熱に対応、省スペース卓上型コンベア式リフロー炉

    赤外線ヒーターを用いた省スペース卓上型リフロー炉(加熱炉)です。 リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での低速運転も可能なため、基板の乾燥やボンディング剤の熱硬化等の用途にもご利用いただけます。...・最大400℃までの加熱に対応 ・幅340mmまでのワーク搬送に対応 ・予備加熱の必要が無く、電源投入直後から使用可能 ・コンベア速度は自由に設定可 ・炉内観察用の横窓を装備 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シンアペックス

  • アドフォスNIR : 超近赤外線加熱装置 製品画像

    アドフォスNIR : 超近赤外線加熱装置

    樹脂・フィルムから金属まで、幅広い業界における加熱処理を劇的に短縮しま…

    アドフォスNIR(超近赤外線)とは・・・従来の赤外線とは一線を画す波長特性を持つ、ドイツ製超近赤外線加熱装置です。一般的な近赤外線が持つ波長帯域は、1.2~2μm(ピーク波長:1.2μm)であるのに対して、アドフォスNIRの波長帯域は、0.8~1.5μm(ピーク波長:0.85μm)。その波長帯域が持つ特徴として、金属などに対しては吸収性が高く、非常に強力な加熱力を持ちながらも、紙、樹脂フィルム、ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 松本金属工業株式会社

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