• 溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』 製品画像

    溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』

    PR比類のない高品質のコーティング、高い皮膜密度と密着力!均一な高い硬度、…

    『HP/HVOF Spray System JP-5000/JP-8000』は、高速フレーム溶射法の採用により、 高品質のコーティングのための基本法則「高燃焼圧力・高ガス流速・高速粒子」の溶射を実現した製品です。 粉末材料を溶融させながら基材に衝突させ、圧縮応力により皮膜を形成するため、 高い密度と密着力、硬度を持ち、酸化物含有量を抑えた皮膜を形成可能。 印刷ロールの耐食性向上や搬送スクリュー...

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    メーカー・取り扱い企業: ユテクジャパン株式会社

  • プラズマ評価ツール『プラズマインジケータ PLAZMARK』 製品画像

    プラズマ評価ツール『プラズマインジケータ PLAZMARK』

    PRプラズマ処理効果の「見える化」を実現!プラズマインジケータ(TM) P…

    『プラズマインジケータ(TM) PLAZMARK(R)』は、プラズマで変色する色材を用いたプラズマ処理効果の確認用インジケータです。 プラズマ密度に応じて段階的に変色しますので、プラズマの状態を「色で見える化」できます。 変色は不可逆反応のため、判定記録として残せ、工程管理にも利用できます。 また、変色は簡単に数値化でき、他の測定結果との相関を見ることもできます(ただし数値化には別途、色差計...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

  • Ni下地用シアンフリー置換金めっき液 『Aurexel DP』 製品画像

    Ni下地用シアンフリー置換金めっき液 『Aurexel DP』

    シアンフリー置換金めっき液による均一なAu薄膜の形成が可能!

    『Aurexel DP』は、析出均一性、はんだ濡れ性に優れ、中性かつ低温で処理が可能なNi下地用シアンフリー置換型金めっき液です。 【特徴】 ■シアン化合物を含まないめっき液によるAu薄膜の形成が可能 ■基板の最終表面処理や還元Auめっきの下地形成に有効 ■成分調整により、下地Niへのダメージ抑制が可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: 関東化学株式会社 電子材料事業本部

  • マイクロバンプ形成用無電解金めっき液 『Aurexel MD』 製品画像

    マイクロバンプ形成用無電解金めっき液 『Aurexel MD』

    無電解金めっきにより、面内均一性に優れたマイクロバンプの形成を実現! …

    『Aurexel MD』は、数μmオーダーのマイクバンプ形成に適した高速無電解金めっき液です。 【特徴】 ■高速還元Auめっき液により数μmオーダーのマイクロバンプ形成が可能 ■シアンを含まず、中性領域かつ低温で処理が可能 ■面内均一性が良好で、独立パターンへのめっき、...

    メーカー・取り扱い企業: 関東化学株式会社 電子材料事業本部

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