• 溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』 製品画像

    溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』

    PR比類のない高品質のコーティング、高い皮膜密度と密着力!均一な高い硬度、…

    『HP/HVOF Spray System JP-5000/JP-8000』は、高速フレーム溶射法の採用により、 高品質のコーティングのための基本法則「高燃焼圧力・高ガス流速・高速粒子」の溶射を実現した製品です。 粉末材料を溶融させながら基材に衝突させ、圧縮応力により皮膜を形成するため、 高い密度と密着力、硬度を持ち、酸化物含有量を抑えた皮膜を形成可能。 印刷ロールの耐食性向上や搬送スクリュー...

    • JP-0-17.jpg
    • 2020-11-04_13h08_00.png
    • 2020-11-04_13h08_51.png
    • ロール-2.JPG
    • 鏡面.jpg
    • ボールバルブ.jpg
    • 2020-11-04_13h09_51.png
    • ヘンシェル.jpg
    • シロックファン.jpg

    メーカー・取り扱い企業: ユテクジャパン株式会社

  • REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』 製品画像

    REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』

    PR耐摩耗性・耐食性・耐焼付性などを向上。実績資料を進呈

    『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』は、熱化学的に軟窒化+酸化を 施す技術で、塩浴中の窒素と少量の炭素で鉄素材表面を強化します。 REACH規制に適合するなど環境負荷が低く、クロムめっきの代替などにも活用可能。 ガススプリングや油圧シリンダー、ブレーキピストンなど様々な製品の 耐摩耗性・耐焼付性・耐食性・疲労強度の向上に貢献します。 クロムめっきからの代替実績を紹介した解説...

    メーカー・取り扱い企業: HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

  • 【半導体・プリント基板水平製造装置】無電解銅めっき(めっき工程) 製品画像

    【半導体・プリント基板水平製造装置】無電解銅めっき(めっき工程)

    有底ビアや高アスペクトスルーホール内まで均一なめっき処理が可能!

    株式会社フジ機工の取り扱う、めっき工程用の無電解銅めっきを ご紹介します。 好適スプレー配置により、有底ビアや高アスペクトスルーホール内 まで均一なめっき処理が可能。 枚葉基板からRoll to Rollによるフレ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジ機工

  • 【半導体・プリント基板水平製造装置】デスミア機(めっき工程) 製品画像

    【半導体・プリント基板水平製造装置】デスミア機(めっき工程)

    完全なスミア除去を実現!メンテナンス性を考慮した装置設計となっています

    株式会社フジ機工の取り扱う、めっき工程用のデスミア機を ご紹介します。 枚葉基板からRoll to Rollによるフレキシブル基板まで対応。 好適スプレー設計により、完全なスミア除去を実現します。 また、メンテナン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジ機工

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg
  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg

PR