高温イオン注入・高温アニール受託サービス【SiC、GaN等】

SiC等のデバイス作製に適した高温イオン注入や、ドーパント活性化のため…

SiC（シリコンカーバイド）、GaN（窒化ガリウム、ガリウムナイトライド）等の化合物半導体では、デバイス作製に適した高温イオン注入やドーパント活性化のための高温アニールが必要とされます。弊社では、高温イオン注入や高温アニールのリクエストにお応えします。 また、アニール時の温度が高温のため、アニール前のキャップ膜による表面保護が必要になります。弊社では高温ア...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

半導体アニール装置の世界市場シェア2024

半導体アニール装置の世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション…

グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界の半導体アニール装置の供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における半導体アニール装置の販売量と販売収益を調査しています。同時に、半導体アニール装置...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

成膜・熱処理装置ラインナップ

半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…

SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター