マスクレス露光装置「MXシリーズ」

半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献しま…

程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから直接露光することができます。 フォトマスクを使用しない露光方式では、世界最高レベル（1ミクロン以下）の露光精度を実現。 試作が容易になり、時間・コストの削減に貢献します...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大日本科研