• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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    マイクロ粒子のシート化技術

    PR【技術の実用化に向けて協力企業を募集中!】 導電性フィルムや、全固体…

    当社で開発した「マイクロ粒子のシート化技術」についてご紹介いたします。 マイクロ粒子を熱プレスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技...

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    メーカー・取り扱い企業: 日榮新化株式会社

  • 【半導体向け】解析シミュレーションソフト ※カタログ進呈 製品画像

    【半導体向け】解析シミュレーションソフト ※カタログ進呈

    工数・コスト削減に!薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの…

    果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI上で、複数の反応式を設定も可能 ・成膜速度分布 ・電子とイオンの密度分布 ・ラジカルと励起種の発生分布 ・イオンフラックス分布 ・エロージョン速度分布      など ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例紹介】グラファイトアノード上Liイオン拡散エネルギー 製品画像

    【事例紹介】グラファイトアノード上Liイオン拡散エネルギー

    『Materials Studio』はバッテリー特性計算ができます【事…

    ホーリーグラファイト内におけるイオンの拡散エネルギーをプロファイルすることで、 ホーリー構造の効果に対しての議論をMaterials Studioを用いて行っております ◇グラファイトアノードへの改善処理に伴う効果を確認でき...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト 製品画像

    半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

    ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

    果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI上で、複数の反応式を設定も可能 ・成膜速度分布 ・電子とイオンの密度分布 ・ラジカルと励起種の発生分布 ・イオンフラックス分布 ・エロージョン速度分布      など ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

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