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厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)
● 独自のセルフバイアス法の採用により高速(3000〜5000Å/min)かつ低ストレスの成膜が可能。(特許出願中) ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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