グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した…

1000～1400℃) ○反応ガス供給：2～60sccm →(水素、メタン、エタン、エチレン、アセチレン、ベンゼン等) ○圧力コントロール：5～100Pa ○可燃性ガス大気放出対策 →エジェクタにより可燃混合範囲以下にエアで希釈排気 ●詳しくは、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 佐藤真空株式会社