• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』 製品画像

    法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』

    PR『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…

    「地球」を考える「化学」の時代。AGCが提案する新製品!フッ素系溶剤『AMOLEA(アモレア)AS-300』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数(GWP)1未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…KB値48の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • ウエハー洗浄装置(バッチ式)※テスト可能機種あり 製品画像

    ウエハー洗浄装置(バッチ式)※テスト可能機種あり

    ウェットエッチングによる、コストダウンに配慮した仕様をご提案します。

    ウェットエッチングならではの低コスト、高生産性を実現します。 ご要望に応じて様々な搬送位置や方式に対応し、追加機構の付加、カスタマイズも可能です。 【特長】 ■全自動酸・アルカリエッチング(洗浄)装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン

  • 排ガス処理装置(スクラバー) 製品画像

    排ガス処理装置(スクラバー)

    排ガス・風量に応じた室内型スクラバーを装着することにより、排ガス処理設…

    エッチング、洗浄装置などの装置に合せて設置が可能です。 ・酸・アルカリなどのガスを適切に処理します。 ・スクラバーで適切に処理することで後工程のダクト、装置への影響がありません。また、室外へ排気された...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン

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