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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』
PR『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…
「地球」を考える「化学」の時代。AGCが提案する新製品!フッ素系溶剤『AMOLEA(アモレア)AS-300』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数(GWP)1未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…KB値48の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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チャッククリーニングウェハ(CCW) 技術ハンドブックVol.1
技術ハンドブックプレゼント!種類・他社品比較の優位点・品質、導入効果な…
当資料は、ウェハチャック上のゴミ/パーティクルを除去するための お掃除用ウェハについてご紹介している技術ハンドブックです。 フォトリソ工程やエッチング工程、スパッタ工程での優れた効果をはじめ、 種類・他社品比較の優位点・品質、導入効果などを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■チャッククリーニングウェハ(CC...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル
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生産用シリコンウェハと同様、自動搬送で流すだけで効果を発揮します。
ついてご紹介します。 当技術は、チャック上のゴミ/パーティクルを除去。簡単な使用方法で ダミーウェハのロスの低減、装置ダウンタイムの削減を実現します。 フォトリソグラフィーのほか、エッチングやスパッタリングの プロセスにおいて効果が期待できます。 【特長】 ■チャックの表面形状に合わせた3D加工も可能 ■専用のメンテナンスシートでクリーニングウェハの再生も可能 ■チャ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル
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チャック上のゴミ/パーティクルを除去!チャッククリーニングウェハ
ダミーウェハのロスの低減、装置ダウンタイムを削減!導入効果や他社比較を…
ウェハチャック上のゴミ/パーティクルを除去するためのお掃除用ウェハについてご紹介している技術ハンドブックです。 フォトリソ工程やエッチング工程、スパッタ工程での優れた効果をはじめ、種類・他社品比較の優位点・品質、導入効果などを掲載!生産用シリコンウェハと同様、自動搬送で流すだけで効果を発揮します。 【掲載内容(一部)】 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル
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溶接繋ぎ目検出センサー(金属検出・磁性非磁性判別に応用可能)
渦電流を利用して溶接部分の検知を行います。 渦電流なので表面…
株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社