処理効率は98％以上のアンモニア分解装置！省エネルギーを実現

PR某化学メーカー等、導入実績多数！　排ガスの風量に合わせて小風量～大風量…

当製品は、NH3を使用した試験を実施されており、 その排ガスを処理する試験用アンモニア分解装置です。 処理効率は98％以上で、自社製バーナを使用しており、安全に処理します。 また高濃度のアンモニアの場合は、直接燃焼することも可能です。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ■某化学メーカー等、導入実績多数有り ■排ガスの風量に合わせて小風量～大風量まで対応可能 ■省スペース、省エネル...

メーカー・取り扱い企業： サンレー冷熱株式会社

水銀吸着剤

PRガス状水銀を高効率で吸着・除去！吸着塔の設計・製作・据付工事も対応いた…

当社では、排ガス中のガス状水銀を高効率で吸着・除去する水銀吸着剤を 製作しており、従来の硫化鉛の他に硫化銅を吸着成分として用いた吸着剤を 実用化しています。 吸着剤厚さ=1500mm、塔内ガス流速=0.2m/s程度の場合、95%～98%程度の 除去率を期待することが可能。 また、活性炭と異なり、ガス中の水分で除去率が低下することがなく、 二酸化硫黄（SO2）ガス存在下でも、数年...

メーカー・取り扱い企業： 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社

浮遊帯域半導体精製装置

シリコンロッドを浮遊帯域精製、単結晶化及び無転位単結晶化する装置です。

浮遊帯域半導体精製装置はＡｒガス雰囲気中でシリコンロッドを高周波で加熱し、偏析法により浮遊帯域精製、又は単結晶化、又は無転位単結晶化を行う装置です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。 ...

メーカー・取り扱い企業： アカイ電子工業株式会社

ロウ付加熱装置

高周波加熱により誰でもロウ付けすることが可能なロウ付加熱装置です。

ロウ付加熱装置は、従来、熟練工がガスバーナー等でワークを加熱しロウ付けしていたものを、高周波加熱により誰でも温度を上げたい部分だけを加熱しロウ付けすることが可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： アカイ電子工業株式会社