【New】インライン型　超音波式ガスセンサ

PRヘリウム/アルゴン/水素ガスを低濃度から高濃度までの測定に！

■配管内のガス濃度測定が可能 ■リアルタイム測定が可能 ■無線機能を搭載 　データをPCに転送・保存。保存したデータを元に履歴を管理！ 使用方法などの詳細はお気軽にお問い合わせください。 MoLeTELLは、日清紡ホールディングス株式会社の登録商標です。...対象検知ガス：空気中の水素（トレーサーガス含む）、ヘリウム、アルゴンガス（ガス種は選択ください） 濃度検知範囲、使用温度範囲、使用湿度...

メーカー・取り扱い企業： 日清紡ホールディングス株式会社

【New】固定型 超音波式ガスセンサ　

PRヘリウム/アルゴン/水素ガスリークを早期発見

■応答速度が速く瞬時に漏れをお知らせ ■無線機能を搭載 　データをPCに転送・保存 ■屋外でも自由自在に設置可能 　オプションの太陽電池とバッテリーを組み合わせ、 　電源が無い場所でも設置可能。また商用電源での使用も可能。 使用方法などの詳細はお気軽にお問い合わせ下さい。 MoLeTELLは、日清紡ホールディングス株式会社の登録商標です。...対象検知ガス、濃度検知範囲、使用温度範囲、使用湿度...

メーカー・取り扱い企業： 日清紡ホールディングス株式会社

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LP

ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット 　...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

マニュアル・ベーク・クーリングLWBシリーズ

高精度ベークプレート、高精度クーリングプレートを採用。ベーククーリング

マニュアル・ベーク・クーリングLWBシリーズは自動レジスト塗布・現像ベーク装置、LITHOTRACシリーズに搭載されている高精度ベークプレート、高精度クーリングプレートを採用したマニュアルのベーク・クーリング装置です。上蓋内側からプロセス・ガスが基板上に均一にパージされ、ベーク中の基板をコンタミネーションから守ります。また、均一排気によりベークの際に発生するアウトガスをクリンルームに放出しない構造...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社