フォトマスク洗浄装置 | 縦型コンパクトタイプ TWE-200

PRスクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れ…

スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実行 テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000 をご提供しています...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

HSGハンディ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0

PRトーチ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0新発売！ダブルワイヤー…

HSG社製ハンディ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0 より小型になり、より使いやすくなりました。 ファイバー溶接ですから、スピーディーに溶接ができ、溶け込みが良く、見栄えも綺麗な溶接が可能です。 その上、FMW-V2.0は ★ダブルワイヤー送給装置が標準装備！ ★シングルモードだから集光性が優れる！ ★軽量トーチで操作性も抜群！ ★レーザークリーナー、簡易レーザーカッターとし...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヨコハマシステムズ レーザー事業部

還元性プラズマクリーナー『Aqua Plasma クリーナー』

金属酸化膜の安全な還元と洗浄を実現！水蒸気を用いたプラズマ処理装置

『Aqua Plasma クリーナー』は、主に水蒸気を用いた プラズマ処理装置です。 金属酸化膜の還元、有機汚れの洗浄、フォトレジストアッシング、 親水化などの表面処理を、安全に効率よく行うことができます。 銀電極...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマクリーナー　PC-1100

プラスチックパッケージや液晶基板、ハイブリッドICなどの表面クリーニン…

さまざまな形状の基板の多数処理が可能です。また、三種類の処理モード（RIEモード、プラズマモード、ダウンストリームモード）を選択できるため、基板の種類に応じた最適な処理を行うことが可能なプラズマクリーナーです。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマクリーナー　PC-300

表面改質に適したバッチ式のプラズマ洗浄装置（プラズマクリーナー）です。…

本装置では、RIEモード、プラズマモードから処理モードを選択できるため、基板の種類に応じた最適な処理を行うことが可能です。また、省スペースで場所を選ばす、卓上型で非常にコンパクトな設計のプラズマクリーナーです。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-1

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。 ...【特徴】 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 ○操作が簡単、メンテナンスが容易 ○低コスト ●その他機能や詳細につ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300H

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。 ...【特徴】 ○従来のUV/O3処理に比べ、高速処理（200～300nm/min）が可能 ○非貴金属系触媒...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。 ...【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵して...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社