リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

ウォールマウント型GPU搭載IPC　AT-IPCWG003

マシンビジョンに適した高性能産業用エッジコンピュータ、GPU搭載産業用…

１． NVIDIA tesla/Quadro/A SeriesのあらゆるGPUカードで、パッシブとアクティブのサーマルに対応 優れた冷却性能によりNVIDIAの様々なGPUを搭載可能。本機器は、データセンター向けハイエンドGPUであるQuadroRTX8000や6000シリーズ、Aシリーズをパッシブ サーマ...

メーカー・取り扱い企業： アナログ・テック株式会社

GPU搭載 産業用エッジコンピュータ　AT-IPCWGシリーズ

外観検査、医療画像分析、半導体製造装置など、高い演算能力が必要なエッジ…

ゲーミング向けで比較的安価なGeforceシリーズ、データセンター向けT4、画像処理やシミュレーションに向けたQuadroシリーズに対応。 ファンレスGPUであるT4や、Quadroのパッシブサーマルタイプもご選択頂けます。 ■画像入力ボードを始めとした様々な機能ボードを拡張可能 拡張性を高めた筐体も用意。カメラリンクやCoaXpressの入力を拡張するなど、用途に合わせた様々な入...

メーカー・取り扱い企業： アナログ・テック株式会社