蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

プラズマ/サーマルALD装置『Fiji G2』

500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

『Fiji G2』は、サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。 プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に 真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜の ALD膜が成膜できる設計...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Phoenix G2』

量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…

『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。 優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、 多用途に対し容易に使用可能。 また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Savannah G2』

研究開発用、小規模バッチ用！簡易除害ユニットALD Shield Va…

『Savannah G2』は、シンプルで使いやすく研究開発から 少規模の量産まで対応可能な柔軟性のあるサーマル式のALD装置です。 高い成膜性能をシンプルなシステムで実現しており、 用途と予算に合わせた構成選択可能。 ご要望の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■高い成膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Firebird』

トップクラスのスループット！柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

『Firebird』は、大規模量産の為のクラスターツールタイプ サーマル式のALD装置です。 実績のあるVeecoの自動化システムを搭載しており、 基板への衝撃の少ないバッチ搬送。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■トップ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ