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試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置
大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず 高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置 【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にUV照射を行い 表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能 ○基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため 厚みのある基板（試料)を処...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル
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