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92件 - メーカー・取り扱い企業
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98件 - カタログ
482件
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ステンレス製バフ研磨装置 ～機械腐食を軽減し長期安定稼働を実現～
PRステンレス材質のスタンドやベースを使用することで機械腐食を軽減し長期安…
弊社のバフ研磨装置、砥石研磨装置は、主に伸銅（条）業界においてご使用いただいております。 焼鈍後の酸化スケール除去、出荷前の仕上工程等で役立ちます。 ◆長期間の使用で機械周りの錆や腐食が気になる！ 洗浄ブース構造で観音扉、飛散防止カバー等によりブース外への水飛散対策をし、 更には高剛性スタンドやベースをステンレス製にする事で設置場所の雰囲気による腐食も防ぐので安心して長期間お使いいただけ...
メーカー・取り扱い企業： 生田産機工業株式会社
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PRガラス越しの温度測定が可能。操作簡単。シンプル且つ特別な光ファイバー式…
簡単操作のなかで、その瞬間の温度を設定値に捕らえようとするアラーム機能が搭載された、赤外線放射温度計です。通常の操作による変更はもちろん、L-1000の特徴とも言えるＤ・ＳＥＴキーによりダイレクトに設定値（アラームＨｉ）を登録することができます。変更の煩わしさから解放されます。(ビーム機能を除いてＬＯＣＫ状態で設定値を保護します。) 140～3000℃をシリーズで測定可能。 【特長】 ■ガラ...
メーカー・取り扱い企業： レック株式会社
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ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」
ターゲットは3種類同時に装着可能！多層膜を作製することが可能です。
コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」は、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 【特長】 ...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
るAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産…
実際のスパッタリングにおいて「石」の役割を果たすのが、真空の容器 （真空チャンバー）内に充填されたアルゴン（Ar）などの不活性ガスです。 スパッタリングでは真空中にアルゴンガスを導入し、ターゲット材料にマイナスの 電圧を印加することで、蛍光灯でも使われているグロー放電を発生させます。 するとプラスの電荷を帯びてプラズマ化したアルゴンイオンは超高速（秒速約3.2km） でターゲット材...
メーカー・取り扱い企業： デクセリアルズ株式会社
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銀、銅（6N）、錫（6N）など様々な大型スパッタリングターゲットの切削…
当社の「門型マシニングセンター」設備は門幅2100mmのため、 大型の半導体用（Φ660mm以上）、液晶製造用（2000ｘ4000mmまで）の大型スパッタリングターゲット加工が可能です。 また、NC制御＋多軸ＡＩ制度補正機能を有するため、繰り返し精度も高く工作機械上で3次元測定機能を用い、加工製品の制度保証を全数行うことが可能です。 月産1000枚程度の...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社埼玉プレーナー工業所 本社
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「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…
今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルターの安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能
高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード！
安定した成膜とコストダウンの両立を実現します。 アメリカオングストローム・サイエンス社製の高機能・高品質な「マグネトロンスパッタカソード」です。 特許技術のShaped Magnet採用により、ターゲットの広い面積を利用するため、エロージョンの進行によるスパッタ状態の変化が起こりにくく、安定した成膜とターゲット交換のためのコスト低減を実現しています。 【特長】 ■Shaped Magnet高効...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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半導体スパッタリングターゲット製造のことなら当社へお任せください
当社では、半導体製造には欠かせないスパッタリング装置で使用する ターゲット材の製造を中軸に、半導体製造装置の部品などを製造 しています。 半導体製造装置の需要増加に対応するため、設備の増強をして まいりました。 その他、Ti、CuやMgなど様々な非鉄金...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジメタル
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硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…
薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置 後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。 Ｌｉの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応可能（有償） 材料（ターゲット）ソフト（成膜テスト）ハード（専用装置）一貫対応 硫化物ターゲット及び専用グローブボックスも装備可能。汎用性と個別対応を両立. ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱…
当社は特殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。 現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、 弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。 その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲッ...
メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社
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メイドイン台湾！ドリル研磨機やコントロールバルブなどを豊富に掲載！
当カタログでは、当社が取扱う台湾ターゲットバルブ（湧鑫實業有限公司）の 製品をご紹介しています。 同社は、ステンレスバルブ、スチールバルブ、ボールバルブの専門製造メーカです。 創業以来、時代のニーズに応える高品質な製品を次々と...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社YTK
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SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。
Si合金にSiCセラミックス粒子を含有させた複合材です。 結晶性Siよりも曲げ剛性が高く、使用途中の割れ、チッピング等の発生がなく最後まで安定した成膜が可能となります。 結晶性Siターゲットの1.3倍の成膜レート（成膜速度）により、効率的な成膜が可能です。...
メーカー・取り扱い企業： 日本ファインセラミックス株式会社
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スパッタリングターゲット材について
スパッタリングターゲットは、 Cr,Ti,CrAl,WC、その他多種類の材料を取り揃えており、 形状・寸法につきましても丸状、板状、棒状など お客様のニーズにより対応致しますので、ご要望をお待ちしております。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エムアンドシー
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リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発…
年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。 従来のマグネトロンスパッタ装置では困難とされる高磁性ターゲットや高誘電タ...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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ステンレス製バフ研磨装置 ～機械腐食を軽減し長期安定稼働を実現～
ステンレス材質のスタンドやベースを使用することで機械腐食を軽減し長期安…
による腐食も防ぐので安心して長期間お使いいただけます。 まずはサンプルによる研磨テストを実施し、 ご要望の条件を確認した後に装置の設計を行います。 また、この技術を応用したシート材研磨装置、ターゲット盤研磨装置等の 実績もございますので、どのようなお悩みでもお気軽にご相談下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業： 生田産機工業株式会社
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