• 独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置 製品画像

    独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

    PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

    『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

    • s1.png
    • 510x515_s.jpg

    メーカー・取り扱い企業: LPKF Laser&Electronics株式会社

  • ウェハ加工及びバンプボンド用ウェハ2D+3D自動検査 製品画像

    ウェハ加工及びバンプボンド用ウェハ2D+3D自動検査

    人が行う官能外観検査から、設備による全自動検査へ!完全なトレーサビリテ…

    当社では、半導体パッケージサービスとして、ウェハ加工及び バンプボンド用ウェハ2D+3D自動検査を行っております。 設備によるバンプの2D(チップ表面状態/ダイシング状態検査)と 3D(バンプボンド測定)の技術を組み合わせた全数検査が可能。 ウェハ受入検査から後検査まで一貫対応しており、完全な トレーサビリティを導入しております。 【特長】 ...

    • 画像1.png
    • 画像2.png
    • 画像3.png
    • 2000969193-2.png
    • 3校_1002_s-takaya_550_550_2076428.jpg

    メーカー・取り扱い企業: エスタカヤ電子工業株式会社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg
  • bnr_2405_300x300m_azx_me_ja.jpg