DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Phoenix G2』

量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…

『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。 優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、 多用途に対し容易に使用可能。 また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、 適切なチャンバーサイズ(＜370mm×470mm)となっております。 【特長】 ■優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ