ＯＢＬＦ社製　発光分光分析装置　ＧＳ１０００－II

独クラフツマンシップの中から誕生した高性能発光分光分析装置

ＧＳ１０００－IIはＯＢＬＦ社製分析装置の中で最も小型なシングルマトリックス専用の装置です。 高精度な分析が、簡単な操作および僅かな日常メンテナンスのみにより実現できます。 大量生産方式では決して得ることのできない高精度と抜群の安定性の達成で各国主要企業において採用されています。 詳細につきましては別途ご連絡下さい。 ...【特徴】 ・光学系：焦点距離５００ｍｍのパッシェンル...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社

OBLF社製　発光分析装置　QSN750-II

世界最高の精度と安定性をもつ発光分析装置

QSN750-IIは750mmの真空光学系をもつマルチマトリックス対応型の装置です。幾多の改良が加えられた現在でも、1/2インチ径の光電子増倍管、カールツァイス製凹面回折格子、といった伝統ともいえる構成と、焦点距離750ｍｍが変わることなく引き継がれています。 詳細につきましては別途ご連絡ください。 ...【特徴】 ・光学系：焦点距離750mmのパッシェンルンゲマウンティング ・真空チャン...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社