ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

小型回転式真空プラズマ装置 『MUG-80』

一括処理で時間短縮&コスト削減！　少量の粉体・微小な部材の表面改質に！

ご要望の多かった、回転式卓上プラズマ装置の小型版がついに登場！ 『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』

乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…

『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。 【特徴】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体