ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

小型回転式真空プラズマ装置 『MUG-80』

一括処理で時間短縮&コスト削減！　少量の粉体・微小な部材の表面改質に！

ご要望の多かった、回転式卓上プラズマ装置の小型版がついに登場！ 『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

小型回転式真空プラズマ装置

一括処理で時間短縮&コスト削減！　少量の粉体・微小な部材の表面改質に！

『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。...【特徴】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

全固体電池/リチウムイオン電池電極材開発　　石川式撹拌擂潰機　

全固体電池の電極材、負極材に使用されるリチウム、硫黄、珪素、炭素（ケッ…

【特長】 ・石川式撹拌擂潰機の特徴そのままに、コンパクト設計を実現。 ・ステンレス筐体採用により耐薬品性が向上し、実験室やクリーンルームでの使用用途が拡がる。 ・D18S, D20S, D22Sは杵先が2本あり、擂潰性能が向上。 ・卓上型のため、ドラフトチャンバーやグローブボックス内での使用が可能となり、有機溶剤等の擂潰も可能。 ・温度上昇を嫌う加工に適した処理 【好適使用事例】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社石川工場

プラズマで密着性・接着性の改善、向上！【SURTECH 出展】

【粉体への表面処理や、金属同士の接着性など】プラズマにて表面処理をする…

電子技研で各種プラズマを用い、対象物の剥離から有機物除去、表面改質による親水性の向上等、さまざまな分野、用途にプロセスをご提案し、お客様と共により良い条件を見出していきます。 【真空プラズマ粉体攪拌処理装置】 各種粉体(カーボン・金属・樹脂・セラミックス・他)を減圧プラズマ中で攪拌しながら処理することにより、ドライ環境のまま微粒子表面を均一に表面改質することが出来ます。 ３方式のプラズマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

サンプル自動供給機『OSK 75BU AF200S』

非常に高い分割精度！代表的で再現可能な分割により、正確な分析結果が得ら…

『OSK 75BU AF200S』は、最大12mmまでの注入可能な固体を非常に正確に 分割することが可能な、回転式ディバイダーのサンプル自動供給機です。 サンプルそれぞれの特長的な組成が元のバルクサンプルの組成と正確に一致。 粗いものから細かいものまで非常に高い再現性で分割され、 試料の供給と 分割プロセスは、中断や試料の損失なしに自動的に行われます。 【特長】 ■使用する...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社