チャンバー式 | イプロスものづくり

PR優れた性能を誇る二槽式構造のHAST装置。新型コントローラーを搭載し、…

『PC-422R9』は、試験槽と蒸気発生槽が完全に分離独立した高加速寿命試験装置(HAST装置)です。高精度温湿度プログラムコントローラーを搭載し、HAST装置としてより高精度な加速評価を実現。また、外部端末と連携した遠隔操作も実現し、簡単に監視・操作ができます。【特長】 ■新型温湿度プログラムコントローラーで、高精度な加速評価を実現。 ■対話式カラータッチパネルで、より操作性...

メーカー・取り扱い企業：株式会社平山製作所

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。業界最小クラスのコンパクトさながら、大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、また真空リフローにも対応。さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので研究開発や試作に適したモデルです。はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応します。【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業：ユニテンプジャパン株式会社

◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃

有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用高温加熱セルとし…

OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用高温蒸着ソースです。固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着（～ 800℃）用セルと高温加熱（～ 1500℃）セルを交換することができます。真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃

真空用高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 15…

HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着（～ 800℃）・高温抵抗加熱蒸着（～ 1500℃）など、真空蒸着成膜用としても様々な用途に応用いただけます。真空成膜用蒸着ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも追加可能。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置研究開発から小規模生産まで…

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質：・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気：・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar, N2） ◾️ PLCセミ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

◆Mini-BENCH-prismセミオート式超高温実験炉◆

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロールタッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社