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    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

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    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 実験器具自動洗浄装置『LAB500シリーズ』<Steelco社> 製品画像

    実験器具自動洗浄装置『LAB500シリーズ』<Steelco社>

    洗浄工程のリスク低減・自動化・効率化!洗浄対象器具ごとに洗浄方法の設定…

    『LAB500シリーズ』は、破損、けがの恐れ、洗浄ムラなどリスクを低減、洗浄に掛かる時間を節約できる実験器具自動洗浄装置です。 内蔵マイクロプロセッサで洗浄サイクルの状態を常に監視し、洗浄終了やエラーなどをアラームでお知らせ。カスタマイズできる制御プログラムは、洗浄温度、時間、回数、洗浄水の選択及び液体洗浄剤の種類、投入のタイミング、洗浄剤の量、乾燥温度、時間等の設定ができます。 また...

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    メーカー・取り扱い企業: ジャパンマシナリー株式会社

  • OBLF社製 発光分光分析装置 GS1000-II 製品画像

    OBLF社製 発光分光分析装置 GS1000-II

    独クラフツマンシップの中から誕生した高性能発光分光分析装置

    GS1000-IIはOBLF社製分析装置の中で最も小型なシングルマトリックス専用の装置です。 高精度な分析が、簡単な操作および僅かな日常メンテナンスのみにより実現できます。 大量生産方式では決して得ることのできない高精度と抜群の安定性の達成で各国主要企業において採用されています。 詳細につきましては別途ご連絡下さい。 ...【特徴】 ・光学系:焦点距離500mmのパッシェンル...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンマシナリー株式会社

  • OBLF社製 発光分析装置 QSN750-II 製品画像

    OBLF社製 発光分析装置 QSN750-II

    世界最高の精度と安定性をもつ発光分析装置

    QSN750-IIは750mmの真空光学系をもつマルチマトリックス対応型の装置です。幾多の改良が加えられた現在でも、1/2インチ径の光電子増倍管、カールツァイス製凹面回折格子、といった伝統ともいえる構成と、焦点距離750mmが変わることなく引き継がれています。 詳細につきましては別途ご連絡ください。 ...【特徴】 ・光学系:焦点距離750mmのパッシェンルンゲマウンティング ・真空チャン...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンマシナリー株式会社

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