• 滴下液体供給装置簡易型ディスペンサー『チビット』 製品画像

    滴下液体供給装置簡易型ディスペンサー『チビット』

    PR水、油、有機洗剤、酸、アルカリ水溶液、メッキ液、スラリー等適用可「重力…

    『チビット』は、「滴らす」「飛ばす」「噴霧」の3つの働き、水・油・薬剤・溶剤もOKの液体滴下装置です。 ある程度の精密性と応答性が必要な場合は電磁ポンプタイプを! 適応粘度は200cp程度まで。 粘度が高い液体とスラリー性質の場合はチューブポンプタイプを! 適応粘度は1000cp程度まで 【特長】 ○入力時間の短・長にかかわらず一定時間滴下動作を行う ○装置連動・簡易充填...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社笠井製作所

  • 人工衛星推進用スラスターバルブ・パイロットバルブ・比例制御弁 製品画像

    人工衛星推進用スラスターバルブ・パイロットバルブ・比例制御弁

    PR2~20N級の人工衛星推進系用スラスターバルブや パイロットバルブ、…

    高砂電気工業は、主に医用診断、環境測定などの分析装置分野にバルブ・ポンプを提供して参りました。 Customization(個別設計)、Miniaturization(小型化)、Integration(統合化)を強みとして、10,000種を超える流体制御機器を開発し、少量多品種生産にノウハウを蓄積してきました。 特に医療分野で培った品質管理の経験を活かし、航空宇宙分野においても高品質・高水準な製品...

    メーカー・取り扱い企業: 高砂電気工業株式会社

  • DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』 製品画像

    DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

    ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャ…

    『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度:1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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