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PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用!ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…
『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5%RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア(マグネットパッキン式)で、中央支柱がないので、 横長のもの...
メーカー・取り扱い企業: トーリ・ハン株式会社
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PR自社製造の円筒状で小さい粒(Φ3mm)状のドライアイス
『ドライアイスペレット』は、円筒状で小さい粒(Φ3mm)のドライアイスです。 弊社では本社工場に製造装置(ペレタイザー)を導入しています。 ドライアイスブラスト(洗浄装置)の普及により需要も増えています。 小粒の形状なので冷熱を効率よく商品に与えることが可能。 角型のスライスタイプに比べ、必要量の調整が簡単。 角がなく、丸みのある形状のため、商品が傷つきません。 ドライアイ...
メーカー・取り扱い企業: 宮原酸素株式会社
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20kg缶と200kgドラムをご用意!ドライフィルムとポジレジストのレ…
『アンラスト R500』は、対象物がドライフィルムとポジレジストの レジスト剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易。 20kg缶と200k...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…
『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取るこ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温~50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶/180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ・温度:50~110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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