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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PR自社製造の円筒状で小さい粒(Φ3mm)状のドライアイス
『ドライアイスペレット』は、円筒状で小さい粒(Φ3mm)のドライアイスです。 弊社では本社工場に製造装置(ペレタイザー)を導入しています。 ドライアイスブラスト(洗浄装置)の普及により需要も増えています。 小粒の形状なので冷熱を効率よく商品に与えることが可能。 角型のスライスタイプに比べ、必要量の調整が簡単。 角がなく、丸みのある形状のため、商品が傷つきません。 ドライアイ...
メーカー・取り扱い企業: 宮原酸素株式会社
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キズがつかない!精密洗浄システム『スノーガンII』※デモ試用可能
廃液処理が不要!超微細ドライアイスパウダーでパーティクル・オイルを徹底…
精密洗浄システム『スノーガンII』は、純度99.99%以上の液化炭酸ガスで ノズルから、サブミクロンの超微細ドライアイスパウダーを噴射。 対象物にキズをつけず、パーティクル・オイル等の汚れを引きはがします。 また、ドライクリーニングのため、洗浄液の洗浄度管理・廃液処理が不要! 「ハンドヘルドタイ...
メーカー・取り扱い企業: オーテックス株式会社
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【技術資料を無料進呈】当社の反射防止フィルムのしくみ、生産方法、メリッ…
【反射防止フィルムの製造方法】 反射防止フィルムに用いられる膜の製造には、大きく分けて「ウェット工法」と「ドライ工法」の 2種類の工法があります。ウェット工法はその名のとおり、液体の材料をベースフィルムに塗工し、 乾燥させて膜を成形します。 ドライ工法は「蒸着」と「スパッタリング」に分かれ、デクセ...
メーカー・取り扱い企業: デクセリアルズ株式会社
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カメラや望遠鏡などのスペクトログラフなどに応用可能!回折光学素子のご紹…
当社は、IC、LSIなどの半導体デバイスを製作する際の微細なパターンの加工、 および電気回路と微細な機械構造を一つの基板上に集積させたMEMS加工に 使用されるフォトリソグラフィー技術とドライエッチング法により、 溝の断面形状が矩形状のグレーティングを開発しています。 【標準仕様】 ■材質:水晶 光学ガラス(BK7) 石英 ■外形寸法:指定寸法(〜□50mm) ■溝本数:...
メーカー・取り扱い企業: ファインクリスタル株式会社 東京オフィス
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◆ ラボ用 温度コントローラ◆ タッチスクリーン、遠隔インターフェイス…
Wavelength Electronics社製のTC15LABシリーズは、高性能デジタルコントロールと安定度の高い温度を維持できる高精度のドライブストレージが備わっています。PIDコントロール値、セットポイント、ターニングモードやバイアス電流の変化を自動調整します。 米国Wavelength Electronics社はレーザコントロ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトロンサイエンス
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