固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-9000シリーズ』

低温プロセス　高屈折率制御　高速反応性成膜　緻密・平坦膜

『AFTEX-9000シリーズ』は、低温・低ダメージで高品質なナノ薄膜形成を 実現可能な装置です。 基板サイズ8インチ対応、ECRプラズマ源を3基まで搭載可能で、これらを 同時に稼動することにより生産性を大幅に向上することができます。 ナノ薄膜形成には是非当社製の装置をお使い下さい。 【特長】 ■8インチ対応のECR成膜モジュールを最大３基接続可能な 　本格的マルチチャン...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社