精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS510...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

イオンビーム描画装置OMFシリーズ

ビューラー・ライボルトオプティクス（旧OPTEG社）のイオンビーム描画…

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。 研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。 2018年より新たに真空中で超精密光学レンズの表面研磨を...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

光学薄膜用スパッター装置 HELIOS

ビューラー・ライボルトオプティクスの光学用スパッター装置

HELIOS（ヘリオス）は、高品質な光学膜製作用に開発されたスパッター装置です。特に低吸収・低分散が求められる多層フィルターの製造に適しています。HELIOSシリーズは400と800（基板サイズ）の2タイプをご用意しています。...【特徴】 ・PARMS (Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社