• 高性能ナイロン・ポリアミド樹脂<フィルム、チューブ他> 製品画像

    高性能ナイロン・ポリアミド樹脂<フィルム、チューブ他>

    PR高強度・高剛性・耐摩耗特性を生かした金属パーツのプラスチック化!

    当社で取り扱う『高性能ナイロン・ポリアミド樹脂』について、 ご紹介いたします。 アミド結合の繰り返しにより主鎖を構成する熱可塑性高分子材料。 優れた機械的強度、耐熱性、耐薬品。 射出成型用材料は自動車、家電、工業部品など、押出成型用材料は フィルム、シート、チューブ、ケーブル被覆などで利用されます。 【優位点】 ■高強度・高剛性・耐摩耗特性を生かした金属パーツのプラスチッ...

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    メーカー・取り扱い企業: IMCDジャパン合同会社

  • 【テストカット受付中】生産性UPや新用途開発に!切断試験サービス 製品画像

    【テストカット受付中】生産性UPや新用途開発に!切断試験サービス

    PR刃物&機械メーカーだからできる!テストカットで分かる各素材の新たな活か…

    「今の工法では生産速度を上げられない」「生産速度を上げると切れなくなる」など カット工程におけるお困りごとはございませんか? 当社では、そんな生産現場の課題に立ち向かうため、 このたび『テストカットサービス』を始めました。 刃物メーカーでもあり機械メーカーでもある当社の特長を生かし、 刃物と機械のいずれも自社製のテストカット機を新設。 紙やフィルムのほか、金属箔や複合シート...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三條機械製作所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

    フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

    『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで  拭き取ることで容易...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』 製品画像

    レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

    20kg缶と200kgドラムをご用意!ドライフィルムとポジレジストのレ…

    『アンラスト R500』は、対象物がドライフィルムとポジレジストの レジスト剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易。 20kg缶と200kgドラム...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

    揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!

    『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M71-2』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

    浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

    鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ・温度:50~110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

    漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温~50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離促進剤『アンラスト F』 製品画像

    レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

    剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶/180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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