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  • 薬液供給装置（連続式）　P112 製品画像

    薬液供給装置（連続式）　P112

    PRプロセス装置に連続で薬液を供給

    本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　 製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
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    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

  • CVD三層コーティング 製品画像

    CVD三層コーティング

    引抜用ダイス、プラグに広く利用され実績が多いコーティングです！

    【代表的なコーティング】 ■TiCコーティング ■TDプロセス ■DLCコーティング ■TiAINコーティング ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業： トーワデンコウ株式会社

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