薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-2000

寿命がある軸受や摩耗するシールを使わない、革新的な磁気浮上式遠心ポンプ…

【主な特長】 ○寿命がある軸受や、摩耗するシールを使わない ○微粒子の発生がほとんどない →接液部に機械的接触がない部品で構成されている為 →半導体洗浄プロセスでの微粒子発生他ポンプに比べ10～50倍微粒子の発生が減少する ○保守コストを削減 →軸受･バルブ･軸シール等がなく、高額なオーバーホールも不要な為 ○装置の稼働率が高められる ○磁...

メーカー・取り扱い企業： Levitronix Japan株式会社

磁気浮上型ベアリングレスポンプ　BPS-600

Better pump for Better Yields !

【主な特長】 ○寿命がある軸受や、摩耗するシールを使わない ○微粒子の発生がほとんどない →接液部に機械的接触がない部品で構成されている為 →半導体洗浄プロセスでの微粒子発生他ポンプに比べ10～50倍微粒子の発生が減少する ○保守コストを削減 →軸受･バルブ･軸シール等がなく、高額なオーバーホールも不要な為 ○装置の稼働率が高められる ○磁...

メーカー・取り扱い企業： Levitronix Japan株式会社